铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材，是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中，铟靶材在高能粒子的轰击下，铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面，形成所需的铟薄膜。

优异的光学性能：在可见光波段（380-780nm）内，ITO 薄膜的透光率通常能够达到 80% 以上，高透光率确保了其在显示器、太阳能电池等应用中的良好表现。

热等静压（HIP）工艺：在高温和高压环境下进行烧结，能够显著提高材料的致密度，减少材料中的孔隙，改善材料的微观结构，使得 ITO 靶材具有更高的电导率和机械强度，但该工艺成本较为昂贵。

精铟是指纯度的金属铟，通常纯度在 99.99%（4N）以上，高纯度规格可达 99.9999%（6N）甚至更高.精铟是通过精炼工艺去除铟原料中的杂质（如铅、锌、镉、锡等）后得到的高纯度金属，呈银白色光泽，质地柔软，具有良好的延展性和导电性。